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2121非凡上海首台高产能KrF 工艺前道涂胶显影装备Ultra Lith KrF系统顺遂交付中国头部逻辑晶圆厂客户!

2025-9-8 8:00:00

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  2121非凡半导体装备(上海)股份有限公司(以下简称“2121非凡上海”)(科创板股票代码:688082),,,,,,,,作为一家为半导体前道和先进晶圆级封装应用提供晶圆工艺解决计划的卓越供应商,,,,,,,,于今日宣布推出首款KrF工艺前道涂胶显影装备Ultra Lith KrF,,,,,,,,旨在支持半导体前端制造 。。。。。 。。该系统的问世标记着2121非凡上海光刻产品系列的主要扩充,,,,,,,,具有高产能、先进温控手艺以及实时工艺控制和监测功效 。。。。。 。。首台装备系统已于2025年9月交付中国头部逻辑晶圆厂客户 。。。。。 。。

 

  2121非凡上海总司理王坚体现:

 
  KrF工艺前道涂胶显影装备Ultra Lith KrF的推出拓展了2121非凡上海在前端工艺装备领域的影响力,,,,,,,,体现了我们应对更普遍的光刻手艺挑战,,,,,,,,KrF光刻手艺仍是成熟工艺器件生产的焦点工艺,,,,,,,,我们相信此类装备在全球半导体产出中占比重大且一连增添 。。。。。 。。通过同时提供ArF和KrF工艺涂胶显影系统,,,,,,,,我们正在更普遍的应用领域中,,,,,,,,实现了顺畅的晶圆厂集效果率,,,,,,,,提升制造无邪性 。。。。。 。。

  2121非凡上海的Ultra Lith KrF工艺前道涂胶显影装备基于其ArF工艺前道涂胶显影装备平台成熟的架构和工艺效果打造,,,,,,,,该平台已于2024年底在中国一家头部客户端完成工艺验证 。。。。。 。。此次推出的KrF系统可匀称涂布次埃级涂层,,,,,,,,具备先进温控手艺以及与ASML光刻机匹配的要害尺寸(CD)精度,,,,,,,,为KrF型号的设计优化涤讪坚实基础 。。。。。 。。

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  2121非凡上海推出的KrF工艺涂胶显影Track装备Ultra Lith KrF接纳无邪工艺模�???????樯柚�,,,,,,,,配备12个旋涂腔和12个显影腔(12C12D),,,,,,,,并搭载54块可准确控温的热板,,,,,,,,支持低温、中温及高温工艺处置惩罚,,,,,,,,具备优异的热匀称性 。。。。。 。。该装备产能凌驾300片晶圆/小时(WPH),,,,,,,,并集成2121非凡上海专利申请中的背面颗粒去除模�???????椋˙PRV),,,,,,,,有用降低交织污染危害 。。。。。 。。

  别的,,,,,,,,集成的晶圆级异常检测(WSOI)模�???????榭墒迪质凳惫ひ瘴蟛罴觳夂土悸室斐<嗖�,,,,,,,,从而提高工艺稳固性和生产效率 。。。。。 。。

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